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이온을 고에너지로 가속시켜
재료의 표면에 주입해 표면에 개질된 층을 만드는 대표적인 표면개질 기술로
금속, 세라믹, 고분자
등 첨단소재의 표면개질을 통해 소재의 표면 특성을 향상시키는 장치입니다. |
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이온빔 에너지 |
300KeV 이하 |
이온빔 전류 |
수십 mA
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구성장치 |
질량분리전자석, 가속관, 스캐너, MQD |
특 징 |
기계적,
전기,광학적, 화학적 특성변화
Hybrid 방식 제작가능 |
적용분야 |
반도체제조(도핑), 정전기방지, 전자파차폐,
내구성,
내마모성
보석발색,
친수/소수성 처리 등
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한국원자력연구원의 이온주입장치 기술이전내용 (산업용 이온빔 조사장치 제작기술)
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근접표면
( Near surface ) 효과
1) Heating
2)
표면에 흡착된 물질의 분리
3) 흡착물질의 접합강화
4)
충돌이온의 표면흡착
5) 이차전자의
방출
6) 이차이온이나 중성 입자의 방출
7) 표면 원자들의 스퍼터링 |
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내부표현
(Subsurface ) 효과
1)
Heating
2) 충돌이온의 주입
3) 격자원자의 이동 및 격자결함 발생
4) 내부표면 원소들의 내부표면 격자로 반동 주입
5) 이동 원소의 격자결함에 갇힘 |
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1)
Bulk의 성질변화 없이 표면성질만 변화
2) 내마모성 향상, 마찰계수 감소, 피로 특성 향상, 내부식성 / 내화학 반응성 향상
3) 매우 작은 양의 Alloying compounds : 환경 및 인체에 무해
4) 박막코팅에 비해 완만한 계면
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